GOS
基于Gd2O2S:Pr:Ce的陶瓷闪烁体在将X射线转换为光线方面具有很高的效率，其衰减时间（t1 / 10 = 5.5 us）短得足以允许以1 ms的间隔重复成像，磷光低， 辐射稳定性高。 由于这些特性的组合，它们已广泛用于医学计算机断层扫描中。 Gd2O2S 由于其宽的间隙（4.6-4.8eV），高化学稳定性和高密度，还可以生产用于彩色电视显像管，医疗成像设备和上转换发光的磷光体和闪烁陶瓷。 当前的GOS闪烁陶瓷作为用于X射线CT探测器应用的闪烁体材料非常有前途。
| 特点 | 应用 |
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材料特性
| 性质 | 价值 |
| 材料 | Ge2O2S |
| 密度 (g/cm3) | 7.34 |
| 晶体结构 | Hexagonal |
| 晶格参数 | a=b=3.85827Å c=6.666659Å |
| 吸湿性 | No |
| 解理面 | No |
| 溶解度 (g/100gH2O) | N/A |
闪烁性质
| 波长（最大发射）（nm） | 510 |
| 波长范围 (nm) | 480-900 |
| 衰减时间 | 5.5 |
| 宽禁带 (eV) | 4.6-4.8 |
| 光输出（光子/MeV） | 27000 |
| X射线衰减系数 (cm-1) | 52 at 70 keV 0.80 at 500 keV |
| 余辉 (%) | <0.01 |
| 辐射损伤 (%) | -3 |
光谱
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与GOS相关的应用:
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| X射线探测 | 医学CT |
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