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GOS

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基于Gd2O2S:Pr:Ce陶瓷闪烁体在将X射线转换为光线方面具有很高的效率,其衰减时间(t1 / 10 = 5.5 us)短得足以允许以1 ms的间隔重复成像,磷光低, 辐射稳定性高。 由于这些特性的组合,它们已广泛用于医学计算机断层扫描中。 Gd2O2S 由于其宽的间隙(4.6-4.8eV),高化学稳定性和高密度,还可以生产用于彩色电视显像管,医疗成像设备和上转换发光的磷光体和闪烁陶瓷。 当前的GOS闪烁陶瓷作为用于X射线CT探测器应用的闪烁体材料非常有前途。

特点 应用
  • 发光效率高
  • 低余辉
  • 高光输出
  • X射线吸收效率高
  • X射线CT
  • X射线显微
  • 激光材料

材料特性

性质价值
材料Ge2O2S
密度 (g/cm3)7.34
晶体结构Hexagonal
晶格参数a=b=3.85827Å
c=6.666659Å
吸湿性No
解理面No
溶解度 (g/100gH2O)N/A

闪烁性质

波长(最大发射)(nm)510
波长范围 (nm)480-900
衰减时间5.5
宽禁带 (eV)4.6-4.8
光输出(光子/MeV)27000
X射线衰减系数 (cm-1)52 at 70 keV
0.80 at 500 keV
余辉 (%)<0.01
辐射损伤 (%)-3

光谱

GOS emission spectrumGOS Absorption spectrum

GOS相关的应用:

X射线探测 医学CT

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